Wafer grafittbærer
Jincheng Graphite, som en profesjonell kildeprodusent av wafer-grafittbærere, gir høy-renhet og høy-stabilitet wafer-grafittbærere. Den er spesialdesignet for høye-temperaturprosesser i halvlederproduksjon, med utmerket termisk jevnhet, korrosjonsbestandighet og lang levetid. Det er mye brukt i presisjonsfelt som waferbehandling og litografi.
Kjernestyrker
Nano-skala grafittsubstrat
Ved å bruke en grafitt med høy-renhet (med et karboninnhold på over eller lik 99,99%) og en metallkomposittprosess, når den termiske ledningsevnen opptil 300 W/m·K, noe som sikrer jevn temperatur på waferoverflaten og reduserer risikoen for vridning forårsaket av termisk stress.
Vakuummiljøkompatibilitet
Tåler et ekstremt temperaturområde på -200 grader til 3000 grader, egnet for vakuumprosesser som litografi og etsing, og har utmerket korrosjonsbestandighet, kompatibel med kjemiske gasser som hydrogen og nitrogen.
Tilpasset tilpasningsevne
Støtter ulike waferstørrelser (som 12-tommers og 8-tommers) og spesielle overflatebehandlingsprosesser, og oppfyller nøyaktige krav for ulike scenarier for halvlederproduksjon.
Søknadsscenario
Wafer litografiprosess
Under påføring av fotoresist gir grafittbæreren et stabilt termisk distribusjonsmiljø, noe som reduserer deformasjonsproblemene til waferen forårsaket av temperaturforskjeller.
Etseutstyr med høy-temperatur
Under plasmaetsing kan den høye varmeledningsevnen til bæreren raskt spre varme, og beskytte waferoverflaten mot skade forårsaket av høye temperaturer.
Vakuumavsetningssystem
Kompatibel med CVD, PVD og andre prosesser, og sikrer at waferen holder flatheten under høye-temperaturavsetninger og forbedrer utbyttehastigheten.
Tekniske spesifikasjoner
| Termisk ledningsevne | 250 - 400 W/m·K (tilpassbar) |
| Driftstemperaturområde | -200 grader til 3000 grader |
| Kompatible gasser | Hydrogen, nitrogen, argon, etc. (halvlederprosessgasser) |
| Overflatebehandling | Plasmapolering/belegg (valgfritt) |
Jincheng Graphite Technology Assurance
Basert på 20 års erfaring med forskning og utvikling av grafittmaterialer, tar Jincheng Graphite i bruk patentert vakuumkomposittteknologi og nanometer-grafittfyllingsteknologi for å sikre den langsiktige-stabiliteten til bæreren under ekstreme forhold. Produktet har bestått ISO 9001 kvalitetssystemsertifisering og AS9100 luftfartsstandarder, og oppfyller de strenge kravene til halvlederproduksjon for termisk styring.
Samarbeidsforpliktelse
Jincheng Graphite tilbyr en fullstendig-prosess tilpasset tjeneste fra design, produksjon til-ettersalg, og støtter små-batchprøveproduksjon og stor-tilpasning, noe som sikrer en kort leveringssyklus og kontrollerbare kostnader. Gjennom det globale logistikknettverket og lokale serviceteam gir den kundene effektive og pålitelige wafer-grafitt-bærerløsninger, som hjelper til med å oppgradere halvlederproduksjonsprosesser.
Populære tags: wafer produksjon grafitt, Kina wafer produksjon grafitt produsenter, leverandører, fabrikk
